Spin Coater merupakan perangkat yang digunakan untuk menerapkan film ke substrat. Sistem akan memutar substrat pada berbagai kecepatan sementara bahan pelapis disalurkan ke permukaannya. Rotasi dilanjutkan sementara cairan berputar dari tepi substrat, sampai ketebalan film yang diinginkan tercapai. Simak spin coater, alat untuk pelapisan berputar.

https://labnonstop.com/

Proses spin coating

Menerapkan film tipis seragam untuk substrat datar dapat dicapai dengan prosedur spin coating. Jumlah larutan berlebih diterapkan ke substrat. Larutan tersebut bisa diterapkan secara manual menggunakan jarum suntik, atau secara otomatis dengan unit pengeluaran dan nozel pengeluaran di tutup spin coater.

Substrat kemudian diputar dengan kecepatan tinggi (misalnya hingga 10.000 rpm) untuk menyebarkan cairan dengan gaya sentrifugal. Mesin yang digunakan untuk spin coating disebut spin coater, spin processor atau hanya spinner.

Rotasi dilanjutkan sementara cairan berputar dari tepi substrat sampai ketebalan film yang diinginkan tercapai. Pelarut yang digunakan biasanya mudah menguap, dan secara bersamaan menguap.

Di samping karakteristik material dari photoresist yang digunakan (kandungan padat dan viskositas), ketebalan film akhir ditentukan oleh kecepatan rotasi. Menjaga kecepatan konstan selama pembentukan film serta dari wafer ke wafer sangat penting untuk lapisan homogen dan proses yang dapat direproduksi.

Meskipun insinyur yang berbeda menghitung hal-hal secara berbeda, ada empat tahap yang berbeda untuk proses pelapisan spin.

• Pengendapan cairan pelapis ke wafer atau substrat

Ini dapat dilakukan dengan menggunakan nosel dan menuangkan larutan pelapis atau dengan menyemprotkannya ke permukaan. Sebuah kelebihan substansial dari larutan pelapis biasanya diterapkan dibandingkan dengan jumlah yang dibutuhkan.

• Percepatan substrat hingga kecepatan putaran akhir yang diinginkan
• Pemutaran substrat dengan kecepatan konstan; gaya kental cairan mendominasi perilaku pengenceran cairan
• Pemutaran substrat dengan kecepatan konstan; penguapan pelarut mendominasi perilaku penipisan lapisan

Kegunaan spin coating

Spin coating banyak digunakan dalam industri semikonduktor, sebagai salah satu aplikasi film tipis, pembuatan film tipis dengan ketebalan di bawah 10 nm bahkan dengan kualitas ketebalan yang tinggi.

Ini digunakan secara intensif dalam fotolitografi, untuk menyimpan lapisan photoresist setebal 1 mikrometer. Photoresist biasanya berputar pada 1000 hingga 4000 putaran per menit selama 30 hingga 60 detik.

Karena nilai ketebalan yang rendah dapat dicapai dengan menggunakan metode pelapisan spin, metode ini sering juga digunakan dalam pembuatan film tipis titanium dioksida transparan pada substrat kuarsa atau kaca, pelapis film tipis tersebut dapat menunjukkan pembersihan sendiri dan sterilisasi sendiri.

Spin Coater, alat untuk pelapisan berputar

Syaf Unica Indonesia menjual alat pelapisan berputar SCS Spin Coater. Alat ini tersedia dalam konfigurasi yang berbeda, masing-masing dirancang dan diproduksi untuk menyediakan laboratorium dengan cara yang sangat efisien dan akurat untuk menerapkan pelapis seragam.

SCS Spin Coater tersedia dengan mangkuk 8, 12, dan 15 inci dalam tiga ukuran penutup yang ringkas. Alat ini memiliki pemrograman cepat dan sederhana melalui kontrol berbasis mikroprosesor menggunakan layar LCD panel depan dan keypad.

SCS Spin Coater memiliki kecepatan rotasi 0 – 9,999 RPM dan dapat diprogram. Model yang dapat diprogram memiliki kapasitas untuk menyimpan dan menjalankan hingga 30 program dengan masing-masing hingga 20 langkah (tidak terbatas dengan perangkat lunak opsional).

SCS Spin Coater ini dapat digunakan pada aplikasi Pelapisan meliputi photoresists, polyimides, metallo-organics, dopan dan silica films. Alat ini bisa Anda beli dengan mengunjungi website kami. Anda juga bisa klik link berikut ini https://syaf.co.id/product/spin-coaters/.

Itulah informasi mengenai spin coater, alat untuk pelapisan berputar. Semoga informasi ini dapat memperkaya wawasan Anda.

WEBSITE || SYAF.CO.ID