Maskless litografi digunakan untuk melakukan eksposur langsung ke resistensi foto dari data pola sesuai keinginan yang dirancang pada layar PC tanpa perlu menggunakan photomask. Simak selengkapnya mengenai maskless litografi dan alat yang digunakan.

https://www.physik.uni-konstanz.de/
Apa itu litografi?
Istilah ‘litografi’ berasal dari kata Yunani lithos, yang berarti ‘batu’ dan graphein, yang berarti ‘menulis’. Ini adalah proses pencetakan yang mengandalkan ketidakcampuran minyak dan air untuk membuat cetakan berkualitas tinggi dari gambar yang ada.
Biasanya, gambar akan digambar langsung pada lempengan batu atau pelat logam datar menggunakan pensil khusus. Tinta kemudian diterapkan pada gambar. Area kosong gambar akan menolak tinta sedangkan gambar akan menahannya.
Selembar kertas (atau bahan alternatif) kemudian akan diletakkan di atas gambar dan lempengan akan melewati pers litho untuk mencetak gambar ke kertas. Litografi sangat ideal untuk pencetakan menengah hingga panjang dan digunakan untuk mencetak majalah, buku, poster, pengemasan, peta, dan banyak lagi.
Apa itu maskless litografi?
Dalam maskless fotolitografi atau fotolitografi tanpa topeng (juga dikenal sebagai “maskless optical lithography“, radiasi yang digunakan untuk mengekspos emulsi fotosensitif (atau photoresist) tidak diproyeksikan dari, atau ditransmisikan melalui, photomask.
Sebagai gantinya, radiasi difokuskan pada berkas sempit yang secara langsung menulis gambar ke dalam photoresist, satu atau lebih piksel pada satu waktu.
Keuntungan utama dari maskless fotolitografi adalah kemampuan untuk mengubah pola litografi dari satu putaran ke putaran berikutnya, tanpa menimbulkan biaya untuk menghasilkan photomask baru. Ini mungkin terbukti berguna untuk pola ganda.
Jenis-jenis maskless litografi
Litografi berkas elektron adalah bentuk maskless fotolitografi yang paling umum digunakan karena berbagai sistem berkas elektron yang tersedia mengakses rentang energi berkas elektron yang sama luasnya (~10eV hingga ~100keV).
Penulisan laser langsung (litografi multifoton) adalah bentuk maskless fotolitografi yang sangat populer. Litografi tersebut menawarkan fleksibilitas dan kemudahan penggunaan dalam pemrosesan R&D. Hal itu menawarkan pola cepat pada resolusi sub-mikrometer dan menawarkan efektivitas biaya saat bekerja dengan ukuran fitur kira-kira 200nm atau lebih.
Litografi interferensi (holographic lithography) merupakan bentuk lain dari maskless fotolitografi, tetapi terbatas pada pembentukan pola periodik saja. Sinar ultraviolet (UV) yang memiliki panjang gelombang lebih pendek daripada cahaya tampak, digunakan untuk meningkatkan resolusi gambar hingga 100 nm.
Maskless litografi dan alat yang digunakan biasanya untuk menghasilkan photomask untuk industri semikonduktor dan LCD. Litografi berkas ion terfokus biasanya digunakan untuk menghilangkan cacat atau mengungkap fitur yang terkubur.
Cara kerja maskless litografi
Dalam maskless fotolitografi, polanya terpapar langsung ke permukaan substrat dengan bantuan modulator cahaya spasial (Spatial Light Modulator atau SLM), yang pada dasarnya berfungsi sebagai topeng yang dapat diprogram.
Sistem mengambil file desain Anda dan cukup “menulis” pola ke substrat yang dilapisi penahan. Proses penulisan langsung ini menempatkan Anda pada posisi untuk melewatkan seluruh proses photomask yang memakan waktu, mahal, dan semua yang terlibat.
Sebagai gantinya, Anda dapat mendesain ulang gambar CAD Anda (berulang kali, jika perlu) dan segera mengekspos ulang polanya.
Maskless litografi dan alat yang digunakan

SmartPrint UV Maskless Lithography merupakan peralatan maskless litografi. Alat ini bekerja berdasarkan teknologi proyeksi DMD yang kompatibel dengan berbagai resistan dan substrat. Alat ini dapat menghasilkan bentuk 2D apa pun pada resolusi mikron tanpa perlu topeng keras.
SmartPrint UV Maskless Lithography dirancang dengan sempurna untuk semua bidang aplikasi yang membutuhkan pola mikro permukaan seperti mikofluida, bioteknologi, dan mikroelektronika. Alat ini mampu bekerja pada berbagai macam media termasuk media non standar (tidak rata, fleksibel, dan tebal).
SmartPrint UV Maskless Lithography kompatibel dengan ukuran sampale apapun hingga 5” topeng persegi. Terdapat metode penyelarasan Intuitif dengan overlay langsung dari desain pada sampel.
SmartPrint UV Maskless Lithography bisa Anda dapatkan dengan membelinya di website Syaf Unica Indonesi. Semoga informasi mengenai maskless litografi dan alat yang digunakan bisa bermanfaat untuk Anda.
WEBSITE || SYAF.CO.ID
